IT 之家 12 月 19 日音书，日本先进逻辑半导体制造商 Rapidus 文牍一路向西2，其购入的首台 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻机已于当地技术昨日在其北海说念千岁市 IIM-1 晶圆厂完成录用并驱动装配。这亦然日本境内初次引入量产用 EUV 光刻配置。

Rapidus 首席推行官、日本政府代表、北海说念及千岁市所在政府代表、ASML 高管、荷兰驻日本大使等关连东说念主士出席了在北海说念新千岁机场举行的系念典礼。

NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 ( Low ) NA EUV 光刻机的最新式号，能娇傲 Rapidus 首代量产工艺 2nm 的制造需求。该光刻机与 0.55 ( High ) NA EXE 平台分享部分组件，晶圆微辞量较前款 NXE:3600D 升迁 37.5%。

除中枢的 EUV 光刻机外，Rapidus 还将在 IIM-1 晶圆厂装配一系列配套先进半导体制造配置以及全自动材料惩处系统，以终了 2nmz 制程 GAA（IT 之家备注：全环绕栅极）结构半导体的坐蓐。

Rapidus 再次阐述 IIM-1 晶圆厂将于 2025 年 4 月驱动试产，且该晶圆厂通盘半导体制造配置均将遴选"单晶圆工艺"一路向西2，Rapidus 将在该花样下构建名为 RUMS（快速和融合制造处事）的新式半导体代工花样。